自定义分类： 清洗去胶系统 研发用等离子去胶机 离子束清洗系统 大基片清洗/去胶/湿法刻蚀 单晶圆/掩模版兆声清洗机 等离子去胶清洗及灰化系统 生长系统 MOVPE设备 ALD原子层沉积系统 MOCVD设备 刻蚀系统 RIE-PE刻蚀机 IBE离子束刻蚀系统 ICP及DRIE刻蚀系统 RIE反应离子刻蚀系统 沉积系统 PLD脉冲激光沉积 PECVD等离子化学气相沉积系统 磁控溅射系统 E-Beam电子束蒸发系统 TE热蒸发镀膜系统 进口光学镀膜机