FilmTek 2000膜厚测量仪
SCI广泛应用于半导体，OLED/LCD, 光电，数据存储，显示器，微型机电系统以及光附膜产业，SCI的薄膜特性度量系统品种丰富，从台式研发设备到全自动生产工具以及分析/设计软件应有尽有。
应用领域
半导体、微电子、MEMS、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科学研究、物理、化学、生物、医药等
测量材料
半导体、介电材料、有机高分子聚合物、金属氧化物、金属钝化膜、自组装单分子层、多层膜物质和石墨烯等
1)Film Wizard? 软件 : 市面上功能最强大的，多用途，界面友好的薄膜测试模拟软件
应用实例，目前已经有多套Film Wizard?软件应用于中国光电，半导体行业的研发和生产行业。
2) FilmTek? 系统: 为SCI出产的基于分光光度技术的度量系统，有多种不同配置，配合不同需求.
1.多层厚度（1? 到 250 microns）
2.折射率n
3.吸收系数k
4.双折射率
5.能隙（Eg）
6.表面粗糙度和损伤
7.多孔性，薄膜成份，结晶度（EMA模式）
8.薄膜温度特性
9.晶元曲率和薄膜耐压性
技术参数
1. 厚度测试范围: 1? to 250 microns
2. 重复性：± 0°（△）
3. 折射率精度：± 2*10-5
4. 光谱范围:380nm~1000nm（190nm~1700nm可选）
5. 入射角:0°（70°可选）
6. 测试速度：小于 15 s
7. 光斑直径： 小于 50 nm
FilmTek 2000是薄膜计量技术的一大突破。Filmtek 2000将光纤光谱仪和革命性的材料建模软件结合在一起，为同时测量薄膜厚度、折射率和消光系数提供了一个负担得起和可靠的工具。FilmTek 2000提供无与伦比的准确性，易用性和分析能力，在一个完全集成的软件包。最适合于图案化的设备晶片，FilmTek 2000米允许测量点的尺寸小到2μm。FilmTek 2000 PAR利用SCI的专利抛物面反射镜技术开发的FilmTek 4000 EM-DUV达到50μm测量光斑大小，同时测量波长从深紫外到近红外。
FilmTek 2000膜厚测量仪技术参数
Measurement Features | FilmTek? 2000 / 3000 |
Index of Refraction折射率 | ±0.002 |
Thickness Measurement Range 膜厚范围 | 5nm-200μm |
Maximum Spectral Range (nm) 最大光谱范围 | 190-1700 |
Standard Spectral Range (nm) 标准光谱范围 | 240-1000 |
Reflection 反射 | Yes |
Transmission 透射 | Yes(3000) |
Spectroscopic Ellipsometry 光谱椭圆分光法 | No |
Power Spectral Density | Yes |
Multi-angle Measurements (DPSD) | No |
TE & TM Components of Index | No |
Multi-layer thickness | Yes |
Index of Refraction | Yes |
Extinction (absorption) Coefficient | Yes |
Energy band gap | Yes |
Composition | Yes |
Crystallinity | Yes |
Inhomogeneous Layers | Yes |
Surface Roughness | Yes |
