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原子层沉积系统PICOSUN™P-300 Advanced系列
原子层沉积系统PICOSUN™P-300 Advanced系列
价 格：询价
产 地：芬兰更新时间：2021/12/21 13:49:47
品 牌：Picosun型 号：PICOSUN™P-300 Advanced系列
状 态：正常点击量：540
联 系 人：销售部
电 话：010-64415767
传 真：010-64425485
等 级： (第 13年)
性 质：贸易型,服务型,
联系我时请说在来宝网上看到的,谢谢！
Picosun? 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN? P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM?300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN?的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN? P系列工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT?综合解决方案24小时快速响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求。
产品参数
| 衬底尺寸和类型 | 156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背）
高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）
大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，医疗植入部件，机械部件等）
粉末与颗粒
Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm
多孔，通孔，与高深宽比（HAR）样品
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| 工艺温度 | 50-500℃ |
| 基片传送选件 | 气动升降（手动装载）
半自动装载，用线性装载器实现
全自动转载，用工业机器人实现
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| 前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源
前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
4根独立源管线，最多加载6个前驱体源
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| 重量 | 400 + 300 kg
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尺寸 (W x H x D)
| 149 cm x 191 cm x 111 cm
|
| 选件 | PICOFLOW? 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
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| 验收标准 | 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 |
产品介绍
客户使用PICOSUN? R系列ALD 设备在150mm和200mm（6“和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
材料
| 非均匀性(1σ)
|
AI2O3 (batch)
| 0.13 %
|
SiO2 (batch)
| 0.77 %
|
TiO2
| 0.28 %
|
HfO2
| 0.47 %
|
ZnO
| 0.94 %
|
Ta2O5
| 1.0 %
|
TiN
| 1.10 %
|
CeO2
| 1.52 %
|
Pt
| 3.41 % |
