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等离子增强化学气相沉积系统（PECVD）
等离子增强化学气相沉积系统（PECVD）
价 格：询价
产 地：美国更新时间：2021/9/10 14:45:14
品 牌：Nano-Master型 号：
状 态：正常点击量：5344
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联 系 人：李先生
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等 级： (第 18年)
性 质：生产型,
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美国NANOMASTER公司PECVD(等离子增强化学气相沉积)系统能够沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。可选用射频（RF）、空阴极高密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体（ICP）源。该公司采用先进技术和稳定可靠的设计为您提供多方位的服务。
应用领域：
1. 等离子诱导表面改性
2. 等离子清洗（NF3）
3. 反应离子蚀刻
4. 等离子体聚合
5. PECVD沉积SiO2、Si3N4、类金刚石、硬质薄膜等
产品参数
1) 平板尺寸：8”
2) 源直径：5”或8”
3) 气体输入管数量：4（两个反应气，一个载气，一个排空管）
4) 源距平板的距离：2”或者可调
5) 真空：低于E-7Torr，200L/sec涡轮分子泵及3.5cfm机械泵组合
6) 最大平板温度：800℃
7) 射频电源供应：600W，13.5MHz
8) 射频偏压：300W，13.5MHz
产品型号：
NPE-3000 桌面型PECVD系统
NPE-4000 立式型PECVD系统
