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最多功能晶圆硅片厚度测量仪在上海和天津发布

孚光精仪有限公司2012年9月1日 20:58 点击:1780

这款晶圆测厚仪,晶圆厚度测量仪,硅片测厚仪,硅片厚度测量仪采用非接触式测量方法,对晶圆的厚度和表面形貌进行测量,可广泛用于:MEMS, 晶圆,电子器件,膜厚,激光打标雕刻等工序或器件的测量。

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晶圆测厚仪,晶圆厚度测量仪,硅片测厚仪,硅片厚度测量仪
专业为掩膜,划线的晶圆,粘到蓝宝石或玻璃衬底上的晶圆等各种晶圆的厚度测量而设计,同时,还适合50-300mm 直径的晶圆的表面形貌测量。

晶圆测厚仪,晶圆厚度测量仪,硅片测厚仪,硅片厚度测量仪采用红外干涉技术,能够精确给出衬底厚度和厚度变化 (TTV),也能实时给出超薄晶圆的厚度(掩膜过程中的晶圆),非常适合晶圆的研磨、蚀刻、沉淀等应用。这种红外干涉技术具有独特优势,诸多材料例 如,Si, GaAs, InP, SiC, 玻璃,石英以及其他聚合物在红外光束下都是透明的,非常容易测量,标准的测量空间分辨率可达50微米,更小的测量点也可以做到。

晶圆测厚仪,晶圆厚度测量仪,硅片测厚仪,硅片厚度测量仪具有探针系统配件,使用该探针系统后,可以高精度地测量图案化晶圆,带 保护膜的晶圆, 键合晶圆和带凸点晶圆(植球晶圆),wafers with patterns, wafer tapes,wafer  bump or bonded wafers 。

该晶圆测厚仪,晶圆厚度测量仪,硅片测厚仪,硅片厚度测量仪直接而精确地测量晶圆衬底厚度和厚度变化TTV,同时该晶圆测厚仪能够测量晶圆薄膜厚度,硅膜厚度(membrane thickness) 和凸点厚度(wafer pump height).,沟槽深度 (trench depth).
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(来源: 孚光精仪有限公司


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