季华实验室磁控溅射系统顺利验收

季华实验室磁控溅射系统顺利验收

近日，NANO-MASTER工程师至季华实验室，顺利安装验收NSC-3500型磁控溅射系统！

磁控溅射系统主要用于半导体应用，同时也可以用于各种需要进行微纳工艺溅射镀膜的情形。可用于金属材料（金、银、铜、镍、铬等）的直流溅射、直流共溅射，绝缘材料（如陶瓷等）的射频溅射，以及反应溅射能力。基片可支持硅片，氧化硅片，玻璃片，以及对温度敏感的有机柔性基片等。

01镀膜均匀性

对于最关键的镀膜的均匀性方面，对于6”硅片的金属材料镀膜，NANO-MASTER可以达到优于3%的镀膜均匀度，而一些设备只能稳定在5%甚至更高。

02设备制造工艺

在配备相似等级的分子泵及机械泵的情况下，NANO-MASTER具有更快的抽真空速率，比如可以在20-25分钟左右就达到高真空工艺，而一些设备则需要30-40分钟。腔体真空的稳定度影响镀膜的性能。

03工艺的可重复性

NANO-MASTER设备在工艺控制方面，有更高的自动化能力，通过PC控制，减少人工干预造成的工艺偏差。而一些设备要求人工配合，导致不同人采用同样的工艺做出来的效果不同，甚至同一个人在不同时间运行相同的工艺做出来的效果也不同。

04设备紧凑性

一些设备在满足相同性能情况下，由于加工的精密度方面的差距，造成设备比较庞大，占地面积较大，使得实验室宝贵的空间被占用严重。而NANO-MASTER设备相对而言具有更紧凑的设计，占地面积也较小。

05设备稳定性

进口设备的维护率较低，可以保证设备较长时间的稳定运行，而一些设备的故障率高，不利于设备的稳定使用，经常因为故障影响实验的正常进行，影响科研进度。