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JC Nabity
美国JC Nabity Lithography Systems  www.jcnabity.com美国JC Nabity Lithography Systems成立于1988年.公司成功研发了基于改造商品SEM、STEM或FIB的电子束曝光装置(Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统,简称NPGS,又称电子束微影系统)。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点,且高能电子的波长短(NPGS的技术目标是提供一个功能强大的多样化简易操作系统,结合使用市面上已有的扫描电镜、扫描透射电镜或聚焦离子束装置,用来实现艺术级的电子束或离子…… 详情>
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